半導(dǎo)體材料質(zhì)量分析介紹
半導(dǎo)體材料質(zhì)量分析的手段主要有XRD、HRXRD、XRD mapping、AFM、TEM等。XRD 即X-ray diffraction 的縮寫，中文翻譯是X射線衍射，通過對(duì)材料進(jìn)行X射線衍射，分析其衍射圖譜，獲得材料的成分、材料內(nèi)部原子或分子的結(jié)構(gòu)或形態(tài)等信息的研究手段。用于確定晶體的原子和分子結(jié)構(gòu)。其中晶體結(jié)構(gòu)導(dǎo)致入射X射線束衍射到許多特定方向。高分辨X射線衍射（HRXRD）對(duì)被測(cè)樣品的結(jié)晶特性進(jìn)行表征，包括取向性、外延關(guān)系、晶粒尺寸、缺陷密度，以及對(duì)低維異質(zhì)結(jié)構(gòu)的結(jié)晶質(zhì)量和結(jié)構(gòu)參數(shù)的表征。AFM全稱Atomic Force Microscope，即原子力顯微鏡，它是繼掃描隧道顯微鏡（Scanning TunnelingMicroscope）之后發(fā)明的一種具有原子級(jí)高分辨的新型儀器，可以在大氣和液體環(huán)境下對(duì)各種材料和樣品進(jìn)行納米區(qū)域的物理性質(zhì)包括形貌進(jìn)行探測(cè)，或者直接進(jìn)行納米操縱。TEM透射電子顯微鏡（英語(yǔ)：Transmissionelectron microscope，縮寫TEM），簡(jiǎn)稱透射電鏡，是把經(jīng)加速和聚集的電子束投射到非常薄的樣品上，電子與樣品中的原子碰撞而改變方向，從而產(chǎn)生立體角散射。散射角的大小與樣品的密度、厚度相關(guān)，因此可以形成明暗不同的影像。
（SEM設(shè)備圖）
（TEM設(shè)計(jì)圖）
拋光漿料配方分析
